核心技术亮点 • 多脉宽超快光源体系可选配纳秒、皮秒、飞秒激光器，覆盖从高效粗刻蚀到极致冷加工，满足不同材料、不同精度的深度与表面质量要求。 • 大幅面高精度一体平台采用高刚性大理石床身、直线电机 + 光栅闭环系统，支持大行程稳定加工，定位精度与重复定位精度达亚微米级，大幅面内全程一致性优异。 • 真正冷加工，极低热损伤皮秒 / 飞秒级超短脉冲作用时间远小于材料热扩散时间，热影响区（HAZ）趋近于零，加工无毛刺、无裂纹、无碳化、无重铸层，特别适合脆性、热敏、高反、超薄材料。 • 微纳结构高精度刻蚀可稳定实现微沟槽、微孔阵列、光栅、掩膜、疏水 / 亲水处理、功能化表面、钝化层剥离、薄膜精细刻蚀等复杂微结构，边缘垂直、形貌可控。 • 智能化与高稳定性支持 CCD 视觉自动定位、自动对焦、工艺参数库、批量自动化生产；光路全封闭稳定设计，24 小时连续工业级运行，良率高、一致性强。  适用材料 • 硅、蓝宝石、玻璃、陶瓷等脆性材料 • 铜、铝、不锈钢、镍、钼、钨等金属与合金 • 薄膜材料、光刻胶、PI、PET、高分子薄膜 • 第三代半导体、复合材料、多层异质材料  典型应用领域 • 半导体与光电子：晶圆开槽、通孔、掩膜版、微流控芯片 • 显示与光学：玻璃刻蚀、光栅、导光板、增透 / 疏水功能表面 • 5G / 射频电子：柔性板、精密线路、屏蔽结构、微孔滤网 • 新能源：燃料电池双极板、极片微结构、封装层刻蚀 • 生物医疗：微针、植入器件、生物芯片、精密导管  系列定位 面向超高精度、大幅面、低损伤、微纳功能化的尖端制造场景，为高端研发与量产线提供从纳秒到飞秒的一站式超快激光微刻蚀解决方案，助力产业实现更高精度、更高良率、更高附加值的升级。